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聚焦東莞盛會，共繪精密研磨未來藍圖

作為中國高端納米激光粒度分析儀領域的領軍企業，珠海真理光學儀器有限公司（以下簡稱“真理光學”）于2025年7月24-25日受邀出席了在東莞喜來登大酒店舉辦的“2025年全國精密研磨拋光材料及加工技術發展論壇（第三屆）”。本次論壇由中國電子材料行業協會粉體技術分會指導、粉體圈主辦，匯聚了半導體、航空航天、生物醫療等領域的頂尖專家及企業代表，共同探討精密研磨拋光技術的創新與突破。真理光學作為支持單位，攜其先進的納米粒度檢測解決方案驚艷亮相，為行業帶來了一場技術盛宴。

高端技術碰撞，真理光學助力精密制造升級

本屆論壇以“新材料、新技術、新高度”為主題，吸引了包括廣東天域半導體、中國電子科技集團第46研究所、浙江大學等200余家上下游企業及科研機構參與。真理光學作為顆粒分析表征領域的標桿，在會議中展示了其 納米激光粒度分析技術 在精密研磨拋光中的革命性應用。

本屆論壇圍繞“磨料制備技術、工藝革新、裝備研發”三大議題展開。多位專家（如河北工業大學何彥剛博士、大連理工大學高尚教授）的報告中強調， 亞納米級表面粗糙度控制 已成為半導體和光學元件的關鍵挑戰。真理光學的技術方案，通過高精度粒度分布分析（D10/D50/D90），為拋光液和磨料的優化提供了數據支撐，助力實現原子級精度的表面加工。

作為本次會議支持單位，真理光學在展區設立技術咨詢臺，與行業同仁深入交流。其激光粒度儀和納米粒度儀系列產品，針對拋光漿料的均勻性和雜質控制，展示了全新系列產品。真理光學LT3600激光粒度儀憑借0.015-3600μm全量程覆蓋和 10000次/秒超高速采樣，解決了拋光液中納米磨料（如納米金剛石、氧化鈰）的分布不均問題。例如，在氧化鈰拋光液的應用中，其技術可識別超細顆粒團聚，避免拋光面型精度偏差，確保半導體晶圓的表面一致性。

通過Nanolink SZ902納米粒度儀的多角度動態光散射（DLS）和Zeta電位聯控 技術，真理光學實現了拋光漿料的實時穩定性監測。Zeta電位＞30mV時，漿料分散性更佳，減少燒結過程中納米顆粒聚集導致的晶界缺陷，為碳化硅等硬脆材料的拋光提供可靠保障。

在7月25日的技術交流環節，真理光學團隊與參會專家及企業代表進行了多輪深度對話和專題對接。論壇期間期間，真理光學技術骨干分別與河北工業大學、江南大學、浙江大學等國內知名的拋光技術專家分享了真理光學在納米拋光領域的解決方案和客戶案例，受到他們的關注與認可。

展望未來：深耕技術創新，共筑精密制造中國夢

本次東莞論壇不僅是技術展示的平臺，更是產業協同的橋梁。真理光學將持續推動 納米粒度檢測技術 在高端研磨拋光領域的應用，助力中國精密制造邁向原子級新時代。